Students will be familiar with technologies and methods used for preparation of thin films. They will have overview of diagnostic methods to analyze morphology, physical, physical-chemical and chemical properties. They will be able to choose optimal techniques and methods to fabricate and characterize thin films regarding the material nature.

Studenti se budou orientovat v technologiích a mechanismech přípravy tenkých vrstev. Budou mít přehled o diagnostických metodách pro analýzu morfologie, fyzikálních, fyzikálně-chemických i chemických vlastností. Budou schopni zvolit optimální techniky a technologie přípravy vrstev a jejich analýzy v závislosti na charakteru materiálu.

oral examination

ústní zkouška

Z:

1. Ohring M.: Materials Science of Thin Films. Academic Press, San Diego 2002

2. Hoffman D., Singh B., Thomas J. H.: Handbook of Vacuum Science and Technology. Academic Press, San Diego 1998.

D:

1. Heide P.: X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY, An Introduction to Principles and Practices, Wiley, 2012

Z:

1. Eckertová L. : Metody analýzy povrchů – elektronová spektroskopie, Academia, Praha, 1990

2. Frank L., Král J.: Metody analýzy povrchů – iontové, sondové a speciální metody, Academia, Praha, 2002

3. Ohring M.: Materials Science of Thin Films. Academic Press, San Diego 2002

4. Hoffman D., Singh B., Thomas J. H.: Handbook of Vacuum Science and Technology. Academic Press, San Diego 1998.

D:

1. Eckertová L. : Fyzika tenkých vrstev, SNTL Praha, 1973

2. Heide P.: X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY, An Introduction to Principles and Practices, Wiley, 2012

none

nejsou

1. Basic characteristics of thin films and nanostructures, classification, properties

2. Thin film growth mechanisms, nucleation, coalescence, substrate

3. Polycrystalline, monocrystalline and amorphous thin films, epitaxy

4. Vacuum techniques in HV, UHV and XHV range

5. Physical vapor deposition (PVD), evaporation, sputtering, PLD, ALD

6. Chemical vapor deposition (CVD) and non-vacuum techniques of preparation of thin films

7. Morphology analyses – scanning probe microscopy (AFM, KPFM, STM)

8. Structure and morphology analyses – TEM, SEM, SAED, LEED, RHEED

9. X-ray and neutron diffraction and scattering (PXRD, GIXRD, GAXRD, SAXS, GISAXS, SANS, GISANS)

10. Ion spectroscopies (SIMS, HEIS, RBS, EBS)

11. Structure and composition analyses – Raman and IR spectroscopies, EDX, NMR, EPR

12. Photoelectron spectroscopy and microscopy (XPS, PEEM)

13. Electrotransport properties – four-point technique and Hall

14. Optical properties - ellipsometry, spectrophotometry, spectroscopy - UV-VIS

1. Základní charakteristika vrstev a nanostruktur, rozdělení, vlastnosti

2. Mechanismy růstu tenkých vrstev, nukleace, koalescence, substrát

3. Polykrystalické, monokrystalické vrstvy, amorfní vrstvy, epitaxe

4. Vakuové techniky v oblasti HV, UHV a XHV

5. Fyzikální metody přípravy vrstev (PVD), napařování, naprašování, PLD, ALD

6. Chemické metody přípravy vrstev (CVD) a nevakuové metody přípravy tenkých vrstev

7. Diagnostika morfologie - mikroskopie skenující sondou (AFM, KPFM, STM)

8. Diagnostika struktury a morfologie - TEM, SEM, SAED, LEED, RHEED

9. Rentgenová a neutronová difrakce, rozptyl (PXRD, GIXRD, GAXRD, SAXS, GISAXS, SANS, GISANS)

10. Iontové spektroskopie (SIMS, HEIS, RBS, EBS)

11. Analýza struktury a složení vrstev - Raman, IČ spektroskopie, EDX, NMR, EPR

12. Fotoelektronová spektroskopie, mikroskopie (XPS, PEEM)

13. Elektrotransportní vlastnosti – čtyřbodové metody, Hall

14. Optické vlastnosti - elipsometrie, spektrofotometrie, spektroskopie - UV-VIS

The lectures posted on the web pages of the Institute of physics and measurements

Přednášky v elektronické podobě zveřejněné na www stránkách Ústavu fyziky a měřicí techniky VŠCHT Praha

none

nejsou

none

nejsou