PředmětyPředměty(verze: 965)
Předmět, akademický rok 2019/2020
  
Technologie a vlastnosti tenkých vrstev, tenkovrstvé sensory - B444010
Anglický název: Technology of Thin Layers and Sensors
Zajišťuje: Ústav fyziky a měřicí techniky (444)
Fakulta: Fakulta chemicko-inženýrská
Platnost: od 2019 do 2019
Semestr: zimní
Body: zimní s.:6
E-Kredity: zimní s.:6
Způsob provedení zkoušky: zimní s.:
Rozsah, examinace: zimní s.:3/1, Z+Zk [HT]
Počet míst: neurčen / neurčen (neurčen)
Minimální obsazenost: neomezen
Stav předmětu: nevyučován
Jazyk výuky: čeština
Způsob výuky: prezenční
Úroveň:  
Poznámka: předmět je možno zapsat mimo plán
povolen pro zápis po webu
Garant: Vrňata Martin prof. Dr. Ing.
Fitl Přemysl Ing. Ph.D.
Kopecký Dušan doc. Ing. Ph.D.
Záměnnost : N444028
Termíny zkoušek   Rozvrh   
Pro tento předmět jsou dostupné online materiály
Anotace -
Předmět zahrnuje dvě oblasti: (i) seznamuje studenty s technologiemi vytváření tenkých nanostrukturovaných vrstev vakuovými technologiemi i "mokrou cestou" a následným vertikálním i horizontálním patterningem těchto vrstev, (ii) demonstruje využití takových vrstev v senzorice v závislosti na jejich elektrofyzikálních a optických parametrech
Poslední úprava: Fialová Jana (15.01.2018)
Literatura -

Z: W.A. Goddard, D.W.Brenner, S.E. Lyshevski, G.J. Iafrate (eds.): Handbook of Nanoscience, Engineering and Technology, CRC Press 2007, ISBN 0-8493-7563-0

D: I. Hüttel: Technologie materiálů pro elektroniku a optoelektroniku, skripta VŠCHT Praha, 2000

D: M. LIBRA: Vakuum - technologie moderní doby. ELEKTRO, 2003

Poslední úprava: Fialová Jana (15.01.2018)
Sylabus -

1. Mikro- a nanovrstvy: perspektivy, vlastnosti (vliv složení, struktury, tloušťky, technologie)

2. Úvod do vakuových technologií, pojem vakuum, střední volná dráha, vakuové napařování

3. Katodové naprašování (diodové, nízkotlaké, vysokofrekvenční), měření tloušťky

4. Magnetronové, reaktivní a iontové naprašování, nanovrstvy, iontová implantace

5. Technologie CVD, PVD, PECVD, MOVPE, MBE, coating technologie (spin-, spray-, dip-)

6. Laserové depoziční metody, interakce záření, PLD, MAPLD, MAPLD-DW, MAPLD-RIR

7. Litografie, litografická maska, pozitivní a negativní rezist, metoda přímého psaní

8. Optické vlastnosti, antireflexní povlak, interference, holografie, elipsometrie, vlnovody

9. Vodivostní senzor plynů, princip a aplikace, porovnání s klasickými analyzátory

10. Polovodičové materiály pro senzory, vliv dopantů a vakancí, Schottkyho přechod

11. Tenkovrstvý vodivostní senzor, náhradní schéma, Debyova délka, interakce s plyny

12. Příprava tenkých vrstev technologií ink-iet, mechanismy nanášení, ink-jet: tiskárny

13. Mikrosenzory připravené technologií ink-jet, multistruktury, tištěné elektronické nosy

14. Tenkovrstvé senzory na bázi QCM, popis rezonance, Sauerbreyova rovnice

Cvičení:

Exkurse do Fyzikálního ústavu AV ČR, ukázky špičkových technologických zařízení

Poslední úprava: Fialová Jana (15.01.2018)
Studijní opory -

Přednášky v elektronické podobě zveřejněné na www stránkách Ústavu fyziky a měřicí techniky VŠCHT Praha

Poslední úprava: Fialová Jana (15.01.2018)
Výsledky učení -

Studenti budou umět:

orientovat se v technologiích vytváření i strukturování mikro- a nanovrstev

aplikovat připravené vrstvy v senzorice (v závislosti na jejich elektrofyzikálních a optických vlastnostech)

Poslední úprava: Fialová Jana (15.01.2018)
Studijní prerekvizity -

Fyzikální chemie

Poslední úprava: Fialová Jana (15.01.2018)
Zátěž studenta
Činnost Kredity Hodiny
Konzultace s vyučujícími 1 28
Účast v laboratořích (na exkurzi nebo praxi) 0.5 14
Účast na přednáškách 1.5 42
Příprava na přednášky, semináře, laboratoře, exkurzi nebo praxi 0.5 14
Příprava na zkoušku a její absolvování 2 56
6 / 6 154 / 168
Hodnocení studenta
Forma Váha
Aktivní účast na výuce 20
Zkouškový test 40
Ústní zkouška 40

 
VŠCHT Praha