PředmětyPředměty(verze: 965)
Předmět, akademický rok 2019/2020
  
Fyzika tenkých vrstev a povrchů - P444008
Anglický název: Physics of thin films and surfaces
Zajišťuje: Ústav fyziky a měřicí techniky (444)
Fakulta: Fakulta chemicko-inženýrská
Platnost: od 2019 do 2019
Semestr: oba
Body: 0
E-Kredity: 0
Způsob provedení zkoušky:
Rozsah, examinace: 2/1, Jiné [HT]
Počet míst: zimní:neomezen / neomezen (neurčen)
letní:neurčen / neurčen (neurčen)
Minimální obsazenost: neomezen
Stav předmětu: vyučován
Jazyk výuky: čeština
Způsob výuky: prezenční
Úroveň:  
Poznámka: student může plnit i v dalších letech
předmět lze zapsat v ZS i LS
Garant: Novotný Michal Ing. Bc. Ph.D.
Vlček Jan Ing. Ph.D.
Klasifikace: Fyzika > Teoretická a matematická fyzika
Je záměnnost pro: AP444008
Termíny zkoušek   Rozvrh   
Anotace -
Předmět se zabývá fyzikou tenkých vrstev a nanostruktur, jsou probírány techniky jejich přípravy (fyzikální i chemické) a pokročilé metody pro studium morfologie, fyzikálních, fyzikálně-chemických i chemických vlastností povrchů. V rámci studia se studenti seznámí s teoretickými základy a popisy, stejně jako s moderními experimentálními přístupy.
Poslední úprava: Novotný Michal (27.06.2018)
Podmínky zakončení předmětu (Další požadavky na studenta) -

ústní zkouška

Poslední úprava: Vrňata Martin (03.07.2018)
Literatura -

Z:

1. Hans Lüth: Solid Surfaces, Interfaces and Thin Films, Springer International Publishing, 2014

2. Donald L. Smith: Thin-Film Deposition: Principles and Practice, McGraw Hill Professional, 1995

3. Frank L., Král J.: Metody analýzy povrchů – iontové, sondové a speciální metody, Academia, Praha, 2002

4. Ohring M.: Materials Science of Thin Films. Academic Press, San Diego 2002

5. Hoffman D., Singh B., Thomas J. H.: Handbook of Vacuum Science and Technology. Academic Press, San Diego 1998.

D:

1. Heide P.: X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY, An Introduction to Principles and Practices, Wiley, 2012

Poslední úprava: VLCEKJ (30.08.2019)
Požadavky ke zkoušce (Forma způsobu ověření studijních výsledků) -

nejsou

Poslední úprava: Vrňata Martin (03.07.2018)
Sylabus -

1. Základní charakteristika vrstev a nanostruktur, rozdělení, vlastnosti

2. Mechanismy růstu tenkých vrstev, nukleace, koalescence, substrát

3. Polykrystalické, monokrystalické vrstvy, amorfní vrstvy, epitaxe

4. Vakuové techniky v oblasti HV, UHV a XHV

5. Fyzikální metody přípravy vrstev (PVD), napařování, naprašování, PLD, ALD

6. Chemické metody přípravy vrstev (CVD) a nevakuové metody přípravy tenkých vrstev

7. Diagnostika morfologie - mikroskopie skenující sondou (AFM, KPFM, STM)

8. Diagnostika struktury a morfologie - TEM, SEM, SAED, LEED, RHEED

9. Rentgenová a neutronová difrakce, rozptyl (PXRD, GIXRD, GAXRD, SAXS, GISAXS, SANS, GISANS)

10. Iontové spektroskopie (SIMS, HEIS, RBS, EBS)

11. Analýza struktury a složení vrstev - Raman, IČ spektroskopie, EDX, NMR, EPR

12. Fotoelektronová spektroskopie, mikroskopie (XPS, PEEM)

13. Elektrotransportní vlastnosti – čtyřbodové metody, Hall

14. Optické vlastnosti - elipsometrie, spektrofotometrie, spektroskopie - UV-VIS

Poslední úprava: Novotný Michal (27.08.2018)
Studijní opory -

Přednášky v elektronické podobě zveřejněné na www stránkách Ústavu fyziky a měřicí techniky VŠCHT Praha

Poslední úprava: Novotný Michal (27.06.2018)
Výsledky učení -

Studenti se budou orientovat v technologiích a mechanismech přípravy tenkých vrstev. Budou mít přehled o diagnostických metodách pro analýzu morfologie, fyzikálních, fyzikálně-chemických i chemických vlastností. Budou schopni zvolit optimální techniky a technologie přípravy vrstev a jejich analýzy v závislosti na charakteru materiálu.

Poslední úprava: Novotný Michal (27.08.2018)
Vstupní požadavky -

nejsou

Poslední úprava: Vrňata Martin (03.07.2018)
Studijní prerekvizity -

nejsou

Poslední úprava: Vrňata Martin (03.07.2018)
Hodnocení studenta
Forma Váha
Ústní zkouška 100

 
VŠCHT Praha